高科技廠房內AMC環境微汙染控管技術發展

製程環境中空降分子狀污染物(airborne molecular contamination, AMC)對產品良率影響日益顯著;製程良率管控上,需針對AMC進行採樣與檢測,製程環境下氣體濃度需控制在 ppbM或到pptM ( parts per trillion Molar) 等級;標準檢測方法是利用衝擊瓶、吸收液、吸附管或真空採樣桶進行收集,最新的技術發展則為利用自動化監測設備,針對廠區進行連續/多點/移動的檢測模式,可更即時有效掌握製程環境的微汙染狀況。

半導體元件導線寬度近幾年從250nm大幅縮小100倍到達2nm製程,然而製程環境中空降分子狀污染物(airborne molecular contamination, AMC)對產品良率影響日益顯著。
何謂AMC? 其定義為「環境中有能力沈積或吸附於表面形成一薄膜層之化學污染物質」;AMC的污染濃度與潔淨室等級無直接關聯性。有文獻報告指出class 1的有機氣態污染物之濃度可能比class 10還大[Kitajima and Shiramizu,1997]。在等級為class 100潔淨室內總有機氣態污染物濃度約100μg/m₃,而粒狀污染物濃度在的潔淨室約為20 ng/m₃,兩者在質量濃度的比例就相差了5000倍。故潔淨室內氣態分子污染物沈積於晶圓表面速率(surface arrival rate)可能為微粒的數個等級以上。


製程環境AMC來源 :
●    空調系統之外氣補氣(周界環境)。
●    腐蝕HEPA中的硼矽玻璃纖維,將硼(B)釋出並沉積改變玻璃基版的潔淨度
●    潔淨室內氣體逸散—特別是新建蓋好的fab (建築結構材質與塗料、機台內部材質、接縫密封劑、晶圓儲存盒、PVC手套等塑膠材質)。
●    製程使用化學原料—更換裝填或維修保養(RCA清洗溶液、光阻劑、顯影劑、去光阻劑等)。
●    SMIF/FOUP/Mini-environment之材質氣體逸散。
●    管路老舊或人員疏失之意外洩露。


AMC污染對製程可能的影響 (參考SEMI Standard F21)

AMC分類

化學物質

影響性

酸性/鹼性

(MA/MB)

HF , HCl , NOx , SOx  , H3PO4

廠房鏽蝕 (FAB Corrosion)

改變蝕刻速度(Etch rate shifts)

光學膜組霧化 (Optics Hazing)

金屬化 (Metallization)

金屬件腐蝕(Corrosion)

線路短路 (Short circuit)

凝縮性物質

Condensable

Phthalates: DBP, DOP

Phosphates: TBP

Siloxane

Adhesion Failure(黏著失效)

SiC Formation(影響碳化矽成型)

High Contact Resistance( 增加阻抗)

Gate Oxide Integrity(閘極氧化層完整性)

Degradation(干擾電訊強度)

Ineffective Cleaning(影響清潔效率)

摻雜物質

Dopant substance

B , BF₃ ,PH₃

Uncontrolled B , P Doping(硼磷參雜)

Threshold Voltage Shifts(改變臨界電壓)

Resistivity Shifts(電阻偏移)

金屬物質

Metals

Fe , Ni , Cu

Currents leakage(漏電流)

Short circuit(線路短路)

Gate Oxide Integrity(閘極氧化層完整性)

Threshold Voltage shifts(改變臨界電壓)

其他類

Others

H2O2O3IPA Acetone

如何針對半導體製程環境AMC進行檢測
對於製程良率管控上,可針對AMC物種不同進行採樣與檢測,製程環境下氣體濃度需控制在 ppbM或到pptM ( parts per trillion Molar) 等級。
1.標準的採樣方法如下:

AMC採樣類別

採樣模式

Analyzer

MA

金屬、陰離子、陽離子、酸類 有機胺

Impinger(衝擊瓶)+吸收液

ICP-MS /IC

MC

THC總碳氫

活性炭吸附管

GC-FID

MB

MEA

矽膠管

GC-FID

MC

VOCsSVOCs Phthplate (DOP ,DBP….) ,Siloxane (D3~D10)DMSOPGMEPGMEA…..

Tenax-TA

GC-MS

SVOCs

PUF

GC-MS

甲醛

XAD-2

GCFID

VOCsSVOCs  (瞬間)

Canister

GC-MS/FID

Particle

NA

Particle counter

2.AMC連續自動監測 :
利用自動化監測設備,針對廠區內高效能空氣過濾系統、FFU (Fan Filter Unit)與人員設備操作區域進行連續/多點/移動檢測MA、MB、MC與微顆粒,提供製程場域AMC濃度即時性的掌握並提供廠務人員能快速地了解突發性汙染的問題,同時可搭配標準採樣分析提供汙染源的溯源與改善對策的建立;自動化監測現已逐步在新建立高科技廠房內成為標準配置以因應如2nm的高階製程或對高無塵室等級的環境控管需求。

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