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良率下降的幕後黑手!為何晶圓上的微量金屬是製程大敵?

微量金屬污染是損害晶圓良率的關鍵。SGS透過滾珠法搭配ICP-MS測試,協助您掌握晶圓上微量金屬含量,洞察製程中的任何細微風險,守護產品品質、良率與競爭力。

微量金屬污染是損害晶圓良率的關鍵。SGS透過滾珠法搭配ICP-MS測試,協助您掌握晶圓上微量金屬含量,洞察製程中的任何細微風險,守護產品品質、良率與競爭力。

晶圓上金屬污染嚴重性

在追求奈米級微縮的戰場上,金屬污染是隱形的敵人。研究顯示,製程中相當比例的產額損失(Yield Loss),源自於晶圓表面的微量金屬污染
◼︎ 電性崩潰:金屬雜質會導致氧化層電壓耐受力下降(GOI失效)
◼︎ 漏電危機:p-n接面漏電流激增,導致元件功耗異常
◼︎ 壽命縮短:引發電遷移與微短路,威脅產品長期可靠度


SGS如何掌握晶圓上金屬污染?

SGS提供滾珠法(液滴走查法)搭配ICP-MS測試服務,透過我們的服務可協助您:
1. 精準追蹤:釐清污染源來自特定製程、機台設備還是化學試劑
2. 及時介入:在產品進入報廢流程前找出問題點,將良率損失降低
3. 品質保證:提供具公信力的第三方報告,確保晶圓達到嚴苛的品質標準

良率即競爭力!
在競爭激烈的半導體市場,SGS助您洞察細微風險。別讓微量金屬成為您量產之路的絆腳石!

與我們專業團隊聯絡 📧 semi.cs.tw@sgs.com ☎ +886 2 2299 3279 #7132-7134

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