國際電子大廠聯合組成的 CEPN 組織近日又發布新一輪要消除 16 項化學物質

#CEPN #第二輪清單 #Clean Electronics Production Network #溶劑 #製程溶劑、保護工人

由 Apple、Dell、HP、Intel、美國環保署、學術界、非政府組織和其他利益相關者所組成 CEPN (Clean Electronics Production Network) 已經選出第 2 波優先替代或者消除之化學物質藉以保護工廠工人等。

CEPN 繼第一批於電子產品製造優先替代或者消除之 9 項物質，近日 6 月 22 日於官網又發布第二輪新的清單 (請參見 Tab 1.)。第二輪清單係經以下來源、由 CEPN 技術審查委員會嚴格且透明的流程選出的，清單共包含 16 項物質。

CEPN 成員公司的製造限用物質清單 (MRSL)、
其他公開可用的 MRSL、
CEPN 製程化學品數據收集 (PCCDC) 工具的信息
利益相關者提名

與第一波清單一樣，CEPN 成員公司著重於產品製程上會使用到溶劑，如果溶劑使用到第一及二輪提到物質，將優先替換或者消除，以保護工廠中工人健康。

Tab 1. 第二輪優先替代或者消除化學物質

No	化學物質名稱 Chemical name	CAS No.
1	異丙苯 Cumene	98-82-8
2	1,2-二氯乙烷 1,2-Dichloroethane	107-06-2
3	二乙二醇二甲醚 Diethylene glycol dimethyl ether	111-96-6
4	二甲基甲醯胺 Dimethylformamide	68-12-2
5	乙二醇乙醚 2-Ethoxyethanol (ethylene glycol monoethyl ether)	110-80-5
6	乙二醇乙醚醋酸酯 2-Ethoxyethyl acetate (ethylene glycol monoethyl ether acetate)	111-15-9
7	乙苯 Ethylbenzene	100-41-4
8	2-甲氧基乙醇 2-Methoxyethanol (ethylene glycol monomethyl ether)	109-86-4

9	甲基異丁酮 Methyl isobutyl ketone	108-10-1
10	硝基甲烷 Nitromethane	75-52-5
11	五氯乙烷 Pentachloroethane	76-01-7
12	1,1,1,2-四氯乙烷 1,1,1,2-Tetrachloroethane	630-20-6
13	1,1,2,2-四氯乙烷 1,1,2,2-Tetrachloroethane	79-34-5
14	四氫糠醇 Tetrahydrofurfuryl alcohol	97-99-4
15	三氯甲烷 Trichloromethane (Chloroform)	67-66-3
16	二甲苯 Xylenes	1330-20-7

備註: 以上中文內容是根據 CEPN 官網擬定，僅供參考；若有疑慮，請以 CEPN 公告原文為準。

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Tab 1. 第二輪優先替代或者消除化學物質

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