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2021-08-09

國際大廠陸續簽署潔淨電子產品生產網路計畫

許多電子大廠品牌商都簽屬了潔淨電子產品生產網路 (The Clean Electronics Production Network ,CEPN) 的計畫,自2021年8月3日起,將三大電子產業龍頭將正式啟動CEPN計畫,將會積極消除9大化學品。

潔淨電子產品生產網路是由美國非營利組織Green America所提出的,主要的目的如下:

  1. 逐步減少優先化學品的暴露
  2. 收集製造過程之化學品相關數據
  3. 培養員工對化學品管理與安全系統與文化
  4. 與選定的供應商合作並加入計畫,以減少電子產品供應鏈中員工暴露有毒化學品之機會
  5. 向員工及公眾進行查核和年度報告,以確保履行承諾方面取得進展
  6. 持續改善
本次更新的9大化學品詳細資訊與排外如下:
化學品名稱 CAS No. 限值 (%) 應用及可能造成之影響 豁免
1-溴丙烷
1-Bromopropane
106-94-5 <0.1 常用於清潔金屬、塑料、電子元件及光學元件,有時候也會應用於噴膠用途。
暴露於1-溴丙烷中,可能會導致神經系統損害、致癌症、生殖毒及影響發育。
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Benzene
71-43-2 <0.1 常用於電子產品最終組裝過程中作為膠黏劑、密封膠、油漆、塗料及油墨之溶劑。
苯可能會具有致癌性、神經損害及損害骨隨。
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二氯甲苯
Dichloromethane
(Methylene Chloride)
75-09-2 <0.1 二氯甲苯可做為脫漆劑,在電子製造業中常作為脫脂劑。
由部分動物實驗的研究指出,可能會導致肝臟和肺部的癌症,也可能會影響中樞神經系統損傷等。
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甲醇
Methanol
67-56-1 <0.1 甲醇常用於清潔產品或是設備的一種醇類。
可能會透過皮膚、眼睛、肺及消化系統吸收,可能會引起失明和腎功能衰竭在內等多個不良影響。
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正己烷
n-Hexane
110-54-3 <0.1 在電子製造中可作為脫脂劑及溶劑使用。同時可作為清潔手機屏幕、印刷電路板清潔、去除助焊劑的殘留物。
吸入正己烷後可能會影響中樞神經系統、導致皮膚及呼吸道的刺激與潰瘍,在部分動物試驗中,可能導致男性的生殖毒性。
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N-甲基吡咯烷酮 (NMP)
N-Methyl-Pyrrolidone (NMP)
872-50-4 <0.1 常用於製造印刷電路板及半導體部件的清潔,同時可做為光刻膠稀釋劑。
NMP可能會導致生殖毒性及發育毒性,同時可能對腎臟、肝臟和神經系統具有毒性。
由於在光阻劑的剝離的使用上缺乏替代方案,因此針對光阻劑剝離時條件豁免。
四氯乙烯
Tetrachloroethylene
127-18-4 <0.1 常用於金屬表面的製備及電子設備的清潔。
四氯乙烯為一種潛在的人類致癌物,可能會導致肝臟的損傷並對眼睛、皮膚、鼻子、喉嚨和呼吸系統造成刺激。
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甲苯
Toluene
108-88-3 <0.1 在電子工業中常做為清潔溶劑使用,且甲苯同時也可作為膠黏劑、油漆、塗料和油墨中的溶劑。
甲苯可能會導致中樞神經系統、生殖系統的損傷及流產。
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三氯乙烯
Trichloroethylene
79-01-6 <0.1 常做為蒸氣脫脂及做為半導體業中使用的晶錠及晶片的清潔。
三氯乙烯為一個已知的致癌物,可能會導致肝臟的損傷及影響發育。
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資料來源:CEPN網站資訊

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